联发科2nm产品9月进入流片阶段,明年下半年亮相

PChome | 编辑: 丁新瑀 2025-05-20 16:26:04

联发科首席执行官蔡力行今日在COMPUTEX上发表主题演讲,宣布,联发科2nm产品将于今年9月进入流片阶段,相较3nm制程,2nm性能将提升15%,功耗下降25%。

5月20日消息,据媒体报道,联发科首席执行官蔡力行今日在COMPUTEX上发表主题演讲,“过去10年,全球有超过200亿台设备搭载联发科芯片,地球上平均每人有2.5台设备采用联发科芯片”,他还宣布,联发科2nm产品将于今年9月进入流片阶段,相较3nm制程,2nm性能将提升15%,功耗下降25%。

据了解,台积电2nm制程采用全新的GAAFET(全环绕栅极场效应晶体管)架构,相较于传统的FinFET架构,GAAFET架构中的每个晶体管都采用了被栅极材料完全包裹的纳米片结构,这一变革大幅提升了晶体管密度,有效降低了漏电现象,并显著降低了功耗。

但据爆料消息,联发科今年9月发布的天玑9500仍然采用台积电3nm制程,明年下半年的天玑9600则会升级为全新的台积电2nm工艺,这将会是联发科第一款2nm芯片。

此外有消息称,台积电2nm晶圆的成本将比之前高出10%,这将导致终端旗舰掀起新一轮涨价潮。

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