虽然GlobalFoundries在32nm HKMG工艺节点上并未达到他们期望中的水平，但是对未来却信心满满，近日他们表示在2015年就可以步入10nm制程时代。
GlobalFoundries执行副总裁Mike Noonen近日在通用平台论坛会议上展示了一份路线图，该路线图显示这家公司在今年晚些时候投产20LPM工艺，明年初就上马14XM，仅仅再过一年就是10XM。
GlobalFoundries 20LPM是一项全新的工艺，虽然没有FinFET而依旧是平面晶体管，但至少转向了gate last。正如名字里LPM字样所标明的，它是一种注重低功耗和移动性的工艺技术。
14XM就不是全新的了，而是14nm FinFET晶体管加上20nm中后端(MEOL/BEOL)，也就是说只有晶体管是新的，而附带的XM后缀则代表极致移动性(Extreme Mobility)。
GlobalFoundries表示，这种混合工艺能够充分利用现有资源、降低研发和制造成本、简化客户方案设计难度，但归根到底还是一种“作弊”行为，技术上无法突破而已。
不过再往后的10XM就是从里到外新设计的了，不但晶体管进化到第二代FinFET，中后端也是新的，但至于能否在2015年上线投产，我们只能观望了。
GlobalFoundries最新的Roadmap（图片来自SemiAccurate）
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