年终手机横评屏幕篇1
工艺好坏早知道
屏幕的制造工艺也是一项对手机影响很大的技术，目前来说，在移动领域主流的屏幕制造工艺技术分为三种，一种是a-si非晶硅技术，一种是夏普开发的igzo技术，最后一种是LTPS低温多晶硅技术，此外还有从LTPS变种而来的技术如CGS等。从工艺的本身的性质来说，最后一种LTPS低温多晶硅工艺的性能是最好的。
非晶硅
a-Si非晶硅
a-si非晶硅工艺是现在使用最广泛的技术，目前来说主要集中在平板、笔记本和液晶电视的等大尺寸屏幕上。而LTPS低温多晶硅技术则主要集中在中小尺寸的屏幕上。其电子迁移率大约在0.5-1cm^2，驱动电路的尺寸约在1英寸左右。
IGZO
IGZO铟镓锌氧化物
IGZO(indium gallium zinc oxide)为铟镓锌氧化物的缩写非晶IGZO材料是用于新一代薄膜晶体管技术中的沟道层材料。IGZO材料由日本东京工业大学细野秀雄最先提出在TFT行业中应用，目前该材料及技术专利主要由日本厂商拥有，IGZO-TFT技术最先在日本夏普公司实现量产。相比a-si非晶硅工艺，IGZO工艺能够实现更高的电子迁移率，同时驱动电路和玻璃基板的尺寸也能做的更小。
激光退火过程
LTPS低温多晶硅
LTPS技术就是现在高端手机中常用的低温多晶硅工艺，其和a-si非晶硅工艺的区别在于要经历一道激光退火的过程，经过激光照射之后非晶硅就会变为多晶硅，同时性能方面大幅度提升，电子迁移率能够达到a-si工艺的200-300倍。
CGS连续颗粒状结晶硅
CGS连续颗粒状结晶硅
CGS即连续粒状结晶硅工艺，由夏普研发，在技术上属于LTPS的一个变种，理论上有着比现有LTPS工艺更好的性能，在电子迁移率的指标上面能够达到LTPS技术的3倍，相比a-si技术更是能够达到600倍。
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