从近几年Intel的市场策略来分析，想要它们在短时间内出现大幅度的降价是不太可能的事。如果Intel想要将45nm技术进一步的普及，那么推出一款上不足下有余的处理器是势在必行的。因此E7200之所以会引起我们的关注，正是因为它虽然是目前所有上市45nm处理器中最低端的一款，但它
技术亮点：采用45nm Wolfdale 双核心
这次的E7000系列是在四核以及E8000系列之后第三个采用45nm制程的系列处理器，与采用65nm制程工艺的E4000系列相比，E7000系列最大的特点就在于采用了45nm制程工艺和多项微体系结构，这也是E7000系列最大的特点。E7000系列所采用的Wolfdale核心，与四核QX9650采用的是相同的Penryn架构，所不同的是QX9650采用的Yorkfield核心是四核心设计，而Wolfdale是双核心设计。
我们知道，随着工艺制程的提升，传统的二氧化硅栅极介电质的工艺在漏电以及功耗方面会成为处理器瓶颈。因此，Intel全新开发的45nm制程以及与之搭配的High-K金属栅极工艺，使新一代E7000系列处理器步进能工作在高默认频率下，而且也大大降低了处理器核心的漏电现象和功耗。
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▲ 45nm工艺300mm晶圆 |
在Intel的45nm工艺中，采用了铪基High-K（高K）栅电介质+Metal Gate（金属栅）电极叠层技术。High-k栅介质与Metal Gate栅极的引入能够使得晶体管漏电率较之传统材料降低10倍以上，与65nm制程工艺相比能够在相同耗能下提升20%的时钟频率亦或是在相同时钟频率下拥有更低的耗能。
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