目前台积电已有40多项90纳米产品导入试产，预计将在1年后导入量产，但因90纳米制程市场需求增加速度可能不及0.13微米制程，估计三年以后客户才会大量使用此先进制程。
第11届VLSI研讨会上，台积发表电65纳米、45纳米、32纳米制程的湿式曝光技术（Immersion Lithography）发展状况，曝光机设备商因应65纳米制程所需光罩，已投注以10亿美元计的资金于波长157纳米曝光机台的研发工作上。
台积电近日已多次对外介绍的「湿式显影技术」（Immersion Lithography），推估显影设备厂商将在2004年底前推出193纳米的「湿式显影机」雏型机，届时台积电也会针对湿式显影技术，在研发部门内成立专属团队进行开发。
希望该技术能成为65纳米制程以下光罩技术的主流，目前台积电在该技术的相关智财权上，已占据了有利位置。这个技术最多可支持到约32纳米制程世代，机台原型预计2004年下半将交货台积电，届时台积电内部将组成相关研发团队全力开发。
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